應(yīng)用光學(xué)投稿須知
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《應(yīng)用光學(xué)》是中國兵器工業(yè)第二O五研究所和中國兵工學(xué)會(huì)共同主辦的學(xué)術(shù)類期刊，本刊為中文核心期刊和中國科技核心期刊，國內(nèi)外公開發(fā)行。
征稿范圍
凡以光學(xué)科研為主體（交叉學(xué)科須側(cè)重光學(xué)領(lǐng)域），有廣闊研究前景、具有國內(nèi)外領(lǐng)先水平或獨(dú)創(chuàng)意義的學(xué)術(shù)論文，有一定獨(dú)立見解的理論論述，并有可靠數(shù)據(jù)的試驗(yàn)報(bào)道，有科學(xué)依據(jù)的技術(shù)應(yīng)用，都?xì)g迎投稿。《應(yīng)用光學(xué)》目前開設(shè)的欄目有：光電系統(tǒng)工程（含軍用光學(xué)）、光電信息獲取與處理、光學(xué)計(jì)量與測試、夜視技術(shù)、光學(xué)元件與制造、激光應(yīng)用技術(shù)、光纖應(yīng)用技術(shù)、信息光學(xué)等。
在參考文獻(xiàn)后附上稿件創(chuàng)新點(diǎn)說明。詳細(xì)說明本文與國內(nèi)外特別是近3年已發(fā)表的研究成果（包括本課題組已發(fā)表的研究論文）相比，具有哪些重大創(chuàng)新。
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應(yīng)用光學(xué)編輯部地址
編輯部地址是西安市電子三路西段九號(hào)。
應(yīng)用光學(xué)創(chuàng)刊時(shí)間
創(chuàng)刊時(shí)間是：1980。
應(yīng)用光學(xué)出版地
出版地：西安市
